Newsparadies: EUV-Lithografie: ASML beschießt Zinntropfen künftig 300.000-mal pro Sekunde

News => Welt-Ticker => Thema gestartet von: heise am 24.02.2026, 14:17:54


Titel: EUV-Lithografie: ASML beschießt Zinntropfen künftig 300.000-mal pro Sekunde
Beitrag von: heise am 24.02.2026, 14:17:54
(http://newsparadies.de/images/board/x31.gif) Belichtungssysteme von ASML sollen 2030 rund 50 Prozent mehr Wafer belichten können als bisher. Das erfordert komplexe Technik.
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Stichworte: ASML, EUV, Halbleiterindustrie, IT


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